(3) 等离子体辅助抛光：等离子体辅助抛光是利用化学反应来去除表面材料而实现抛光的方法，采用特定气体，制成活性等离子体，当活性等离子体与工件表面作用，发生化学反应，生成易挥发的混合气体，从而将工件表面材料去除。由于玻璃研磨时，机械作用是主要的，所以磨料的硬度必须大于玻璃的硬度。 光学玻璃和日用玻璃研磨加工余量大，所以一般用刚玉或天然金刚砂研磨效率高。平板玻璃的研磨加工余量小，但面积大，用量多，一般采用价廉的石英砂。

选用拋光处理产品的有红粉（脱色铁）、脱色铈、脱色铬、脱色锆、脱色钍等，日用化工有机窗玻璃生产制造亦有按照长石粉的。磁学产品的多功能拋光处理技巧这对于磁学有机窗玻璃生产制造，传统型的打磨及拋光处理措施，从特殊要求和率这方面已沉重感应。目前为止成长 方向了大部分新的生产制造技巧，如数控机床打磨和拋光处理技巧、阴阳离子束拋光处理技巧、地应力盘拋光处理技巧、超油亮表面能生产制造技巧、拓展性轴类生产制造、优质的配置散发拋光处理法、脉冲光拋光处理、手机震动拋光处理等，这新技巧，已全部适宜磁学行业巨大成长 方向的特殊要求。光学元件元件透镜新的生产制造枝术，都边检侧、边校准，不禁生产制造高精准更高，又很生产制造时间挺高多少倍到几二十倍，对人力枝术的依赖感性已非常的渺小，新研磨镜面抛光处理镜面抛光处理处理和镜面抛光处理处理枝术的高速发展化因素都很高，相同高精准更高。精机研磨镜面抛光处理镜面抛光处理处理和镜面抛光处理处理、能力盘镜面抛光处理处理枝术等，专门涉及涉及球体和 非球体光学元件元件透镜的生产制造，非常的专业技术化。