硅红外滤光片的特点

2013-11-04 admin1

　　硅红外滤光片旨在降低直拉硅单晶氧含量，提高硅红外滤光片透过率的硅片热处理工艺。其特征是将硅片在400-1000℃温度间的四段温区逐步升温并保温适当时间并在硅片冷却至850℃以下时取出，处理后的直拉硅单晶片在9um处的透过率接近或达到区熔硅单晶的水平，用热处理后的廉价直拉硅单晶片制造的红外滤光片，可满足红外仪器设备所需红外滤光片的要求，大大降低了滤光片的成本。

　　硅红外滤光片的热处里工艺设备，涵盖硅片的切、磨、打磨和耐腐蚀刷洗及热处里用熔融石英炉管的HCl处里，它的症状最为：1.在炉温高于400℃时，装进硅片，2.将炉温度上升至400-550℃，隔热10-301天;第二提温至700-800℃，隔热10-301天，再提温至800-900℃，隔热2-51天，后来提温至900-1000℃，隔热2-51天，3.在炉温降到850℃下面时，去除硅片。